夏秋小ギクのエセフォン剤セルトレイ上処理による開花抑制

摘心した夏秋小ギク苗に、セルトレイ上で200ppmエセフォン溶液を処理することで、圃場処理と同等の開花抑制効果と切り花品質が得られる。処理時間、薬量は、慣行の圃場処理の約1％に低減できる。

夏小ギクの開花抑制にはエセフォン処理が用いられているが、現地では、定植、活着後の苗に圃場で散布するため、作業に労力を要する。そこで、処理時間と生産コストの低減を図るため、セルトレイ上でのエセフォン処理法を確立する。

１．	200穴セルトレイに挿し芽後13日経過した夏秋小ギク苗に対して、摘心後に200ppmエセフォン溶液を散布する。散布翌日に圃場に定植する(図1)。
２．	セルトレイ上でのエセフォン散布処理により、多くの夏秋小ギク品種で慣行の圃場処理と同等の開花抑制効果が得られ、切り花品質も同等である(表1)。
３．	慣行の圃場処理と比較して、セルトレイ処理は、処理時間と処理薬量が約１％に低減できる(図2)。

１．	キク生産農家へ導入することで、エセフォンの使用量を大幅に削減できるとともに、散布作業の軽労化がはかれる。
２．	表1に記載した以外の品種に適用する場合は、エセフォンの効果を事前に確認する。
３．	セル成型苗に用いる挿し穂は、スムーズな発根を促すため、挿し穂基部にインドール酪酸0.5％の粉衣を行う。
４．	エセフォン溶液の散布量は、茎葉が十分濡れるセルトレイ当たり0.3L程度とする。
５．	定植後の生育を促進するため、液肥を潅注する。

［具体的データ］

研究課題名：主要花き類の開花制御技術の開発
予算区分：県単
研究期間：1999～2003年度
研究担当者：坂本浩、小森治貴