オンシジウム切り花栽培における適切な年間窒素施用量

［背景・ねらい］

　オンシジウム切り花栽培の肥培管理は、化成肥料、油かす等の置肥の施用、10日に１回程度灌水を兼ねた液肥の施用、および両方を併用するなど生産者により多様である。
　そこで、置肥の施用量と液肥濃度の組合せが、株の生育、開花、切り花品質に及ぼす影響を検討し、適切な年間窒素施用量を明らかにする。

［成果の内容・特徴］

1. 切り花栽培種Oncidium.Gower Ramsey「Shonan」を素焼き鉢に水苔植えで、表１に示すとおり3号鉢から生育に合わせて肥培管理を変えて栽培する。ほぼ開花株となる4号鉢の年間窒素施用量は0.4g～1.4gである。
2. 草丈は株の養成段階では年間窒素施用量が多いほど優れる傾向であるが、開花株に達すると差は小さくなる（図１）。
3. 最も年間窒素施用量の少ない0g-50ppmは他の肥培管理方法に比べて草丈やバルブ径など生育が劣る（表２）。
4. Oncidium.Gower Ramsey「Shonan」は秋から冬に開花する傾向が強い不定期咲き品種であるが、液肥濃度が低く、また置肥が少ないほど花茎発生率は高い傾向にあり（表２）、初回の開花が早まる傾向がある（表３）。
5. 秀品率は年間窒素施用量が0.8gである0g-100ppmで最も高く、同区では花茎長、小花数、切り花重も他の肥培管理方法より優れる傾向がある（表３）。

［成果の活用面・留意点］

1. フラスコ出から開花までの株の養成段階では、年間窒素施用量が多いほど株の生育は優れる。
2. 早期より開花させる場合、液肥は低濃度で施用し、置肥は施用しないか施用量を抑え、年間窒素施用量を少なくする。
3. 開花本数を確保しながら秀品率を高めるための4号素焼き鉢での年間窒素施用量は、0.8g程度が適当と考えられる。

［具体的データ］

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