ギ酸カルシウム資材の葉面散布によるナシ「新高」の尻あざ症、裂皮の抑制

[背景・ねらい］

　ナシ「新高」に発生する尻あざ症や裂皮などの生理障害に対して、カルシウム剤の処理が有効であると 報告されているが、効果的な処理方法は示されていない。そこで、カルシウム資材の葉面散布が、尻あざ症、 裂皮の発生に及ぼす影響を明らかにする。

[成果の内容・特徴］

1. ギ酸カルシウム資材500倍液を満開後40日から58日（５月下旬から６月上旬）にかけて５回散布する。 その結果、尻あざ症及び裂皮の発生は、ギ酸カルシウム区が無処理区に比べて少ない （表１、２）。
2. ギ酸カルシウム資材を、200倍液で満開20日後と30日後に２回散布（前期高濃度２回区）するか、 500倍液を満開後20日から10日間隔で５回散布（分散５回区）する （表１）と、尻あざ症、裂皮に対する抑制効果が高い （表３）。
3. 果実品質への影響は認められない（データ省略）。

[成果の活用面・留意点］

1. 尻あざ症や裂皮の発生が多い樹には、小袋を掛けないでギ酸カルシウム資材を散布する。
2. 散布後に葉や果実の薬液痕に軽微な褐変が認められる場合があるが、その後の落葉や成熟果の汚れなどは認められない。
3. 単用（肥料登録有り）での使用が望ましいが、主要な農薬との混用でも薬害は認められない。
4. 散布量は農薬散布とほぼ同じ300L/10a程度とする。

［具体的データ］

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